特种气体260种的用途你都晓得不？（5）

201.R-12与R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5,>99.9%,用作冷冻剂、空调。
 
202.R-22与R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2,>99.9%,用作冷冻剂、空调、喷雾。
 
203.R-23与R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3,>99.9%,用作冷冻剂、空调。
 
204.全氟丁烷(R601)-C4F10,>99%,用作绝缘气体。
 
205.三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3,>99%,用于制备润滑脂、油类、
 
蜡类、塑料的聚合剂,聚三氟氯乙烯的单体。
 
206.三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3,>99%,用于聚合反应和化学中间体。
 
207.二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2,＞99.9%,用于化学合成中间体。
 
208.1,1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2,>99%,是一个很重要的单体,用于生产塑料及弹性体。
 
209.氯乙烯(R1140)-C2H3Cl,>99.9%,用作标准气;用作聚合剂、有机合成的中间体。
 
210.氟乙烯(R1140)-C2H3F,>99.9%,用作聚合剂、有机合成的中间体。
 
211.氦-3–He3,>99.99%,充计数管;作稀释制冷机超低温冷源,可达4.5×10-3K。
 
212.氦-4-He4,>99.99%,在空间应用的低温火箭燃料、核反应堆中重水及所有常温与低温的液体均可用氦-4作压送气。
 
213,氘-D2,>99.95%,在核工业研究中应用在氖核加速器中作为抛射体;当放射丫能射线时作为中子源;在研究化学反应时,包括氢化合物,可作为轨跡用;用于生产重水(D2O)。
 
214.氚-T2,>99.95%,用作标准气,控制每升为1000微居里,有很广泛的活泼性,与氖氩混合作为载气,可用于检测微量氮气及其它稀有气体。’
 
215.氧-18-O218,>99%,可制备H218O、D218O、S18O2。
 
216.氮-15-N215,>99%,可制备15NH3、16NO、15NO等。
 
217.氩-36–Ar36,>99.99%,计量值用。
 
218.氩-40-Ar40,>99.99%,计量值用。
 
219.氖-20Ne20,>99.99%,计量值用。
 
220.氖-22Ne22,>99.99%,计量值用。
 
221.氪-85-Kr85,>99.99%,标准气,控制每升为10微居里,充灯泡用。
 
222.氪-86-Kr86,>99.9%用作标准气。
 
223.氙-133-Xe133,>99.9%,充灯泡用。
 
224.碳-13-C13,>99%,可制备13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。
 
225.碳-14-C14,>99%,用作标准气,控制每升为100微居里。
 
226.碳-18-C18,>99%>99%,可制备C18O2、C18O。
 
227.硫-35-S35,>99%,用作标准气,控制每升为100微居里。
 
最近发现的12种,前10种为电子气,后2种为有机气体。
 
1.三氯甲烷-CHCl3,>99.9%,用于等离子干刻。
 
2.三氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用于热氧化。
 
3.二甲基二氯硅烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用于外延、化学气相淀积。
 
4.二甲基氯硅烷-(CH3)2SiHCl,>96%,用于外延、化学气相淀积。
 
5.三甲基氯硅烷-(CH3)3SiCl,>95%,用于外延、化学气相淀积。
 
6.二氟四氯乙烷-C2Cl4F2,>99.9%,用于等离子干刻。
 
7.六氟化硅-SiF2,>99.9%,用于等离子干刻。
 
8.八氟甲烷-CF8,>99.9%,用于等离子干刻。
 
9.异十氟丁烷-i-C4F10,>99.9%,用于等离子干刻。
 
10.十二氟乙烷-C2F12,>99.9%,用于等离子干刻。
 
11.乙烯基甲基醚-C3H3O,>99.5%。
 
12.乙烯基乙炔-CH2CHC2H,>50%。
 
1.二甲基镉-(CH3)2Cd,纯度＞99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
2.二乙基镉-(C2H5)2Cd,>99.999%,电子气,用于MOCVDo
 
3.四甲基锡-(CH3)4Sn,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
4.四乙基锡-(C2H5)Sn,>99.999%,电子气,_用于MOCVD。、
 
5.三甲基砷-(CH3)3As,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
6.三乙基砷-(C2H5)3As,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
7.三乙基锑-(C2H5)3Sb,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
8.二乙基铟-(C2H5)2ln,>99.9999%,电子气,用于MOCVD。
 
9.二甲基铟-(CH3)2In,)99.9999%,电子气,用于MOCVD。
 
10.二乙基镁-(C2H5)2Mg,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
11.二甲基汞-(CH3)2Hg,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
12.二乙基汞-(C2H5)2Hg,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
13.三甲基磷-(CH3)3P,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
14.三乙基磷-(C2H5)3P,>99.999%,电子气,用于MOCVD。
 
15.三异丁基铝-(i-C4H9)3AI,＞99.9999%,电子气,用于MOCVD。
 
16.丙硅烷-Si3H8,>99%,电子气,用于CVD。
 
17.三氯化铝-AlCl3,>99.999%,电子气,用于外延。
 
18.五氟化钽-TaF5,>99.9%,电子气,用于离子注入。
 
19.五氟化铊-TlF5,>99.9%,电子气,用于离子注入。
 
20.氯乙烯-C2H3Cl,99.9%,校正气,用作冷冻剂。
 
21.氟乙烯-C2H3F,>99.9%,校正气,用于制聚乙烯树脂和其它单体的共聚物。